오염물질은 일반적으로 여러 출처에서 발생합니다: 시료나 시료 홀더를 실수로 만졌을 때, 오일 확산 펌프에서 나오는 기름이 역류할 때, 전자현미경 기둥 오염, 그리고 준비 과정에서 사용되는 접착제나 용매 등이 있습니다. 시료를 깨끗이 하려고 매우 주의를 기울여도 표준 세척 방법은 종종 100% 성공적이지 않습니다.
플라즈마 클리닝은 기존의 탄소 성분 잔여물을 제거하고 이미징 및 분석 중에 오염이 발생하지 않도록 방지합니다. 저에너지 유도 결합 고주파 플라즈마는 시료의 원소 조성이나 구조적 특성을 변화시키지 않으면서 효과적으로 시료 표면을 세척합니다. 고도로 오염된 시료는 2분 이내에 세척할 수 있습니다.
플라즈마 클리너는 다양한 기법으로 준비된 다양한 재료에서 오염을 제거합니다. 시료 홀더는 단일 포트를 통해 플라즈마 챔버에 삽입됩니다. 포트에는 시료 홀더의 O-링과 호환되는 진공 밀봉 표면이 있습니다. 포트는 10초 이내에 손쉽게 교체할 수 있습니다.
탄소를 많이 포함한 시료나 탄소 지지 그리드에 장착된 시료의 경우, 플라즈마의 세척 효과를 최적화하는 차폐(shielded)된 시료 홀더 포트를 사용할 수 있습니다.
플라즈마 클리너는 모든 상업용 TEM 및 STEM의 측면 삽입식 시료 홀더를 쉽게 받아들일 수 있으며, SEM 또는 표면 분석 전에 대량 시료의 세척도 가능합니다 플라즈마 클리너에는 고객이 선택한 specimen holder port, pumping port assembly 및 blank plug assembly가 포함됩니다.
플라즈마 클리너는 다음과 같은 전자현미경 제조사에서 생산된 장비에 사용할 수 있는 포트를 제공합니다:
오염물질은 일반적으로 여러 출처에서 발생합니다: 시료나 시료 홀더를 실수로 만졌을 때, 오일 확산 펌프에서 나오는 기름이 역류할 때, 전자현미경 기둥 오염, 그리고 준비 과정에서 사용되는 접착제나 용매 등이 있습니다. 시료를 깨끗이 하려고 매우 주의를 기울여도 표준 세척 방법은 종종 100% 성공적이지 않습니다.
플라즈마 클리닝은 기존의 탄소 성분 잔여물을 제거하고 이미징 및 분석 중에 오염이 발생하지 않도록 방지합니다. 저에너지 유도 결합 고주파 플라즈마는 시료의 원소 조성이나 구조적 특성을 변화시키지 않으면서 효과적으로 시료 표면을 세척합니다. 고도로 오염된 시료는 2분 이내에 세척할 수 있습니다.
플라즈마 클리너는 다양한 기법으로 준비된 다양한 재료에서 오염을 제거합니다. 시료 홀더는 단일 포트를 통해 플라즈마 챔버에 삽입됩니다. 포트에는 시료 홀더의 O-링과 호환되는 진공 밀봉 표면이 있습니다. 포트는 10초 이내에 손쉽게 교체할 수 있습니다.
탄소를 많이 포함한 시료나 탄소 지지 그리드에 장착된 시료의 경우, 플라즈마의 세척 효과를 최적화하는 차폐(shielded)된 시료 홀더 포트를 사용할 수 있습니다.
플라즈마 클리너는 모든 상업용 TEM 및 STEM의 측면 삽입식 시료 홀더를 쉽게 받아들일 수 있으며, SEM 또는 표면 분석 전에 대량 시료의 세척도 가능합니다 플라즈마 클리너에는 고객이 선택한 specimen holder port, pumping port assembly 및 blank plug assembly가 포함됩니다.
플라즈마 클리너는 다음과 같은 전자현미경 제조사에서 생산된 장비에 사용할 수 있는 포트를 제공합니다:
