오늘날의 첨단 소재 중 많은 경우, TEM은 미세구조와 물성에 대한 귀중한 정보를 수집할 수 있는 최고의 기술로 인정받고 있습니다. 나노기술 연구 및 반도체 디바이스 시료의 특성이 점점 더 작아짐에 따라 시료가 매우 얇고 준비 과정에서 유발된 Artifact가 없어야 하는 것이 필수적입니다. 특히 수차 보정 및 단색화 전자원을 사용하는 TEM에서는 해상도가 서브 앙스트롬(Å) 수준이므로 이러한 요구사항이 더욱 중요합니다.
NanoMill 시스템은 초저에너지 농축 이온 빔을 활용하여 TEM 분석에 적합한 최고 품질의 시료를 제작합니다.
초저에너지 불활성 가스 이온 소스
집중 이온 빔 스캔 기능
손상된 층 제거 및 재증착 방지
FIB 처리 후 가공에 이상적
기존 방식으로 준비된 시료의 결과 향상
상온부터 극저온까지의 NanoMillingSM 공정 지원
고속 시료 교체
컴퓨터 제어 및 완전 프로그래밍 가능
오염이 없는 드라이 진공 시스템
오늘날의 첨단 소재 중 많은 경우, TEM은 미세구조와 물성에 대한 귀중한 정보를 수집할 수 있는 최고의 기술로 인정받고 있습니다. 나노기술 연구 및 반도체 디바이스 시료의 특성이 점점 더 작아짐에 따라 시료가 매우 얇고 준비 과정에서 유발된 Artifact가 없어야 하는 것이 필수적입니다. 특히 수차 보정 및 단색화 전자원을 사용하는 TEM에서는 해상도가 서브 앙스트롬(Å) 수준이므로 이러한 요구사항이 더욱 중요합니다.
NanoMill 시스템은 초저에너지 농축 이온 빔을 활용하여 TEM 분석에 적합한 최고 품질의 시료를 제작합니다.
초저에너지 불활성 가스 이온 소스
집중 이온 빔 스캔 기능
손상된 층 제거 및 재증착 방지
FIB 처리 후 가공에 이상적
기존 방식으로 준비된 시료의 결과 향상
상온부터 극저온까지의 NanoMillingSM 공정 지원
고속 시료 교체
컴퓨터 제어 및 완전 프로그래밍 가능
오염이 없는 드라이 진공 시스템
