Fischione 제품군

 

 

 Model 110 – Automatic Twin-Jet Eectropolisher

전해 연마 또는 화학적 에칭을 통한 시편제작

양쪽으로 전해액을 분사하여 동시 연마 가능

짧은 시간에 높은 신뢰성

쉽게 조절 가능(전해액 분사량, 시료 위치)

 

 Model 1020 – Plasma Cleaner

TEM SEM 시료, 홀더의 cleaning

시편의 오염 방지 및 제거

etching이나 sputtering이 일어나지 않음

이미지와 분석 결과를 향상

 

 Medel 1030 – Automated Sample Prep(ASaP) System

한 챔버에 네가지 기능 구현

-      Plasma Cleaning

-      Ion Beam Etching

-      Reactive Ion Etching

-      Ion Beam Sputter Coating

 

 Model 1040 – NanoMill

Ultra-low energy ion source 사용

집적된 이온빔사용

Amorphous layer damage layer 제거

FIB Milling fine milling에 적합

Cooled stage 채용으로 시편의 오염방지

 

 Medel 1050 - TEM Mill

2개의TrueFocus Ion Source (Fischione의 특허)

100eV ~ 6keV Ion Beam으로 Milling Polishing 가능

각각의 Ion source gas control

±10°의 밀링 각도 범위 조절

사용하기 쉬운 User Interface

 

 Model 1060 – SEM Mill

SEM 시편에 특화된 전처리 장비

2개의TrueFocus Ion Source (Fischione의 특허)

시편의 Milling Polish 가능

빔 사이즈 조절 가능

Milling 각도를 0° ~ 10° 조절 가능

 

 Model 1070 – NanoClean

Sample, Holder, Stub Cleaning

유도결합 플라즈마를 이용하여 뛰어난 성능 발휘

다양한 Process Gas(O, Ar, H) 사용 가능

터치스크린 인터페이스와 간단한 설정